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光刻加工厂
超10年MEMS经验团队主导
光刻代加工是半导体行业集成电路芯片产生技艺中的一家决定性方法步骤,采取大曝光和显影液在光刻胶层上勾画集成电路芯片设计,再经过刻蚀技艺将掩膜上的平面图形转移到衬底上。美明微电子器材到目前为止把握微电子器材束光刻,伺服电机式光刻,使用式光刻等多种多样光刻新技术。
光刻技艺关键技术应用于半导器材,集成型线路生产整个过程中。
硅片,玻璃纸,蓝月亮石,软性建材等

电子厂束光刻(EBL):世界上最大线宽50nm,的精密度能够达到10%。

伺服电机式光刻:stepper i7/🐷i10/i12,很小线宽350nm,大曝光计算误差±0🥂.1um。

交往,将近式光刻:MA6/BA6光刻机,最短线宽1um,爆光不确定度±0.5um。

太阳光的紫外线光刻、无掩膜光刻、单面光刻、紧贴套刻长度:8'6'4'2'或者不的规则小片

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