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光刻生产制造
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光刻生产研发是集成电路生产技术设备元元器研发生产技术设备中的一家主要环节，借助拍摄和成像在光刻胶层上描画元元器组成，再能够 刻蚀生产技术设备将掩膜上的图行转成到衬底上。美明微电子无线现如今把握微电子无线束光刻，步进驱动器式光刻，接处式光刻等许多种光刻技术设备。
光刻技木最主要APP于半导体元器件一体化线路芯片，一体化线路制造厂时候中。
硅片，波璃，蓝原石，韧性用料等

智能电子束光刻（EBL）：较大线宽50nm，高精准度高达10%。

步进驱动器式光刻：stepper i🅷7/i10/i12，很小线宽350nm，爆光随机误差±0.1ꦏum。

接处，快要式光刻：MA6/BA6光刻机，最少线宽1um，曝光度数据误差±0.5um。

紫外线光刻、无掩膜光刻、双层光刻、贴准套刻图片尺寸：8＇6＇4＇2＇并且不流程小片

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