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网上束光刻(EBL):不大线宽50nm,计算精度高达10%。
步♕进电机式光刻:stepper i7/i10/i12,面积最小线宽350nm,曝光过度随机误差±0.1um。
遇到,更加接近式光刻:MA6/BA6光刻机,最窄线宽1um,大曝光出现偏差的原因±0.5um。
太阳光的紫外线光刻、无掩膜光刻、两面光刻、对套刻大小:8'6'4'2'及及不流程小片