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智能束光刻(EBL):面积最小线宽50nm,可靠性强,精密度大约10%。
𝄹步进电机控制式光刻:stepper i7/i10/i12,较小线宽350nm,晒出随机误差±0.1um。
碰触,临近式光刻:MA6/BA6光刻机,超小线宽1um,曝料不确定度±0.5um。
分光光度计光刻、无掩膜光刻、俩面光刻、瞄准套刻大小:8'6'4'2'相应不游戏规则小片