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玻璃镀膜新工艺
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负压度表层的玻璃镀膜指是在负压度工作环境下,将三种金屬同或金屬以色谱综合的形势火成岩到食材表面层,建成一二层高密度的薄膜和珍珠棉。表层的玻璃镀膜质在半导体芯片元器件的功能性建成至关根本。
镀晶技术工艺大部分应该用在微nm光电器件配件的生产期间中,轻金属材质及ITO物料大部分应适用金属材质电极的化学合成,其它的非轻金属材质物料大部分应适用绝缘层物质层和光荣牺牲掩膜层的化学合成。

🍰不锈钢:Ti,Ai,Ni,Au,Ag,Cr,Pt,Cu,TiW90,Pd,Zn,Mo,W,Ta,Nb等。

非重金属:Si,SiO2,SiNx,AL2O3,HFO2,MgF2,ITO,Ta2O5等。

硅片、石英晶体的玻璃片、蓝藍寶石片、PET、Pi等。
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