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刻蚀艺
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刻蚀是明确掩膜设定或设定符合要求对半导体设备行业衬底表层或表层网络覆盖薄膜和珍珠棉完成保护性刻蚀的技能，它是半导体设备行业开发艺，微手机IC开发艺中的这种等同于首要的流程。是与光刻相认识的设定化整理的这种其主要艺。刻蚀分类干法刻蚀和湿法结垢。近年来美明手机把握好多重刻蚀艺，并会只能根据消费者需要量，设定刻蚀效率好且性价变高的刻蚀化解细则。
刻蚀枝术通常用于半导体技术电子元件，结合集成运放研制，聚酯薄膜集成运放，彩色印刷集成运放和的微细图型的精加工等。
刻蚀枝术：化合物束刻蚀（IBE）、深硅刻蚀（DRIE）、响应化合物刻蚀（RIE）、焦聚化合物束刻蚀（FIB）、电感交叉耦合（IPC）等化合物刻蚀。
硅、空气氧化硅、轻金属、石英晶体材质等。
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